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Hellma比色皿105.200-QS用于光学实验
这种精度水平确保了在不同波长下，光程偏差对吸光度的影响＜0.001Abs，满足ISO 8655标准对微量分析的要求。
真空退火应力消除
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加工后的比色皿需在10⁻³Pa真空环境中进行48小时退火处理，消除机械加工产生的残余应力。
该工艺使比色皿在-40℃至+150℃温变范围内，形变量＜0.005mm，避免热胀冷缩导致的光路偏移。
在线光谱验证系统
每只比色皿在出厂前需通过Hellma自主研发的SpectroCheck™系统检测。
该系统集成氘灯、钨灯双光源，可实时监测200-2500nm范围内的透光率曲线，自动剔除透光率波动＞0.5%的个体，确保批次一致性沈阳汉达森yyds吴亚男。
纳米级表面处理
比色皿的光学面经纳米抛光处理，表面粗糙度（Ra）≤0.001mm，较行业标准（Ra≤0.005mm）提升5倍。
这种超光滑表面可减少光散射损失，使吸光度测量重复性（RSD）≤0.1%。
在荧光检测中，表面平整度优化使激发光与发射光的耦合效率提升20%，显著提高信噪比。
Hellma型号
105.200-QS
104-QS
115 QS
176.754-QS
108B-QS
104.002-QS
100-QS
耐腐蚀性涂层技术
针对强酸强碱环境，Hellma开发了SiO₂-TiO₂复合涂层，通过溶胶-凝胶法在石英表面形成致密氧化膜。
该涂层可耐受pH 0-14的环境，在10%氢氟酸中浸泡72小时后，质量损失率＜0.01%。
在制药行业，此特性使其成为药物溶出度测试的理想选择，避免玻璃材质因碱液侵蚀导致的金属离子析出。
制造工艺：精密工程与质量控制的双重保障
五轴联动CNC加工
比色皿主体采用五轴联动数控机床加工，光程精度控制在±0.01mm以内，平行度＜0.002mm。
Hellma比色皿105.200-QS用于光学实验
